イベント


1.
ナノテクノロジープラットフォーム 平成29年度 電子線描画リソグラフィスクール
講義および実習


■日 時:
  • 講義 2017年6月13日(火)13:00〜
  • 実習 2017年6月14日(水)および15日(木)
■場 所:
  • 講義 広島大学 学士会館レセプションホール
  • 実習 広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
      http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/

■趣旨: 本スクールは、文部科学省ナノテクノロジー・プラットフォーム事業の一環として、
産学官の研究者に電子線描画リソグラフィ技術を中心とした超微細加工に関する装置やその原理を学習する場と、 電子線描画リソグラフィ技術を実地に習得する機会を提供し、
ナノテクノロジーにおける人材育成に貢献することを目的としています。

ナノテクノロジープラットフォームの事業として、参加者を募集しています。
関心をお持ちの方々の参加を歓迎致します。
■パンフレットはこちら(pdf形式)

■参加費:無料。 但し、参加者の講義および実習開催場所までの交通費と食事、宿泊代は参加者負担。
■参加形態:
  1. 講義(6/13)のみ (定員60名)
  2. 講義+実習1日目(6/14)のみ(実習定員4名)
  3. 講義+実習1日目&2日目( 2.の形態を含めて実習定員4名)
その他上記の参加者で施設見学を希望される方は、申込時にその旨をお伝えください。
      (施設見学:6月13日10時30分〜11時30分)
■応募資格:
  • 学部卒業以上または、それと同等以上の経験を有する産官学の研究・開発従事者。
  •       (学部生、大学院生は指導教員の許可を得ることが条件です。)
  • 電子線描画・微細加工に関する経験不問。
  • 実習期間中、各実習開催機関の安全ガイドラインと専任スタッフの指示を守れる事。
■お申し込み先:(担当: 田部井 哲夫)
      申込方法の詳細は、こちら(pdf形式)を参照ください。

■応募締切 :2017年6月9日(金)
■お問合せ:(担当: 田部井 哲夫)
      広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
      Web: http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/(研究所)




2.
ナノテクノロジープラットフォーム 平成29年度 学生研修プログラム
広島大学募集テーマ:CMOSトランジスタ・IC作製実習


■期 間:2017年7月31日(月)〜5日(土)6日間
■場 所:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
      http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/
■内容: NMOS,PMOSトランジスタを用いたCMOS-ICの試作実習を通じて、
プロセス基礎技術とトランジスタ・回路の基本技術全体を学びます。
イオン注入、酸化、リソグラフィー、エッチングなど基本技術を学びます。
作製する回路は、CMOSインバータを基本とするリングオシレータ、SRAMなど。
時間短縮のためN-ウェル形成までは予め準備します。
最小加工寸法は、マスクレス露光を用いた3ミクロンとします。

ナノテクノロジープラットフォームの事業として、学生研修プログラムの参加者を募集しています。
関心をお持ちの方々の参加を歓迎致します。
■パンフレットはこちら(pdf形式)

■参加費:無料、 旅費&宿泊費:支給
■お申し込み先:Web: http://nanonet.mext.go.jp/gakusei/h29/
■応募締切 :2017年5月31日(水)
■お問合せ:(担当: 田部井 哲夫)
      広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
      Web: http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/(研究所)

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