メンバー
[ナノデバイス・バイオ融合科学研究所]
教授
横山 新 (運営委員長、責任者)

特任准教授
田部井 哲夫 (主任)

研究員
佐藤 旦

補助職員
山田 真司、岡田 和志

事務補佐員
島田 香織



技術支援員の保有技術
平成29年6月1日現在
 
支援内容No.装置等名研究員補助職員
佐藤   山田岡田
ナノ構造加工1超高精度電子ビーム描画装置
(エリオニクス, ELS-G100)
  
2電子ビーム露光装置
(日立, HL700)
  
3電子ビーム描画装置
(日本電子, JBX-5D)
4i線ステッパ
(ニコン, NIKONi8a)
 
5マスクレス露光装置(ナノシステムソリューションズ, DL-1000) 
6エッチング装置
(神戸製鋼, ECR Si用)
   
7エッチング装置
(神戸製鋼, RIE SiO2用)
   
8エッチング装置
(神戸製鋼, RIE, Al用)
   
9エッチング装置
(YOUTEC, ICP Al用, 12-228PH)
   
10エッチング装置
(YOUTEC, ICP poly-Si ゲート用, 12-228PH)
   
11エッチング装置
(神戸製鋼, CDE SiN用)
   
12エッチング装置
(神戸製鋼, レジスト Ashing用)
 
13エッチング装置
(エイコー, 汎用, VX-20S)
   
14エッチング装置
(住友精密工業, Si深掘用, MUC-21)
  
15エッチング装置
(サムコ, ICP SiO2用, MP-300iP)
  
16表面活性化接合装置
(エイコー, EHB-400)
   
17PDMS加工装置
(魁・THINKEYほか)
 
薄膜形成・不純物導入18酸化炉3台
(東京エレクトロン, 370MI-MINI)
 
19ウェル拡散炉
(東京エレクトロン, 370MI-MINI)
  
20インプラ後アニール炉
(東京エレクトロン, 370MI-MINI)
  
21燐拡散炉
(神港精機)
  
22汎用熱処理装置
(光洋サーモシステム, KTF 453N-VP)
  
23ポストメタライゼーションアニール(PMA)炉
(神港精機)
  
24Rapid Thermal Anneal 装置
(サムコ, HT-1000)
   
25イオン注入装置
(アルバック, IM-200M)
   
26スパッタ装置
(エイコー, Al用)
   
27スパッタ装置
(エイコー, Cu用)
   
28スパッタ装置
(エイコー, 汎用)
   
29LPCVD装置
(東京エレクトロン, poly-Si用)
   
30LPCVD装置
(東京エレクトロン, SiN用)
  
31LPCVD装置
(東京エレクトロン, SiO2用)
   
32プラズマCVD(PECVD)装置
(アルパック)
   
33常圧SiO2CVD装置
(天谷製作所, M01)
   
ナノ構造パターン設計34設計・T-CAD用ワークステーション   
分析・評価・測定
(試作の過程および
最終的に完成した段階で使用)
35走査型顕微鏡:SEM
(日立, S-4700)
 
36二次イオン質量分析装置:SIMS
(アルバックファイ, SIMS6650)
   
37原子間力顕微鏡:AFM
(セイコーインスツルメンツ, SPI3800)
 
38干渉式膜圧計
(日本ナノメトリクス, AFT 5000)
 
39分光エリプソメーター
(J. A. Woollam Japan, M2000-D)
 
40デバイス測定装置
(HP4156, 3台, プローバ3台 含む)
 
41低温測定装置
(Desert HYTT-01)
   
42ロジックアナライザ他
  
43表面段差計
(デクタック, Dektak3ST)
  
44ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
(日新ハイボルテージ, AN-2000H)
   
45薄膜構造評価X線解析装置(XRD)
(リガク, ATX-E)
   
46蛍光X線分析装置(XRF)
(リガク, ZST-400)
   
47X線光電子分光装置(XPS)
(クレイトスアナリティカル, ESCA-3400)
   
48ホール効果測定装置
(ACCENT, HL5500PC)
  
49光学スペクトル測定装置
( , )
   


*○印の記載がない装置に関しては、その他関連スタッフが対応いたします。

連絡先はこちらを御覧下さい。
ログイン
ユーザー名:

パスワード:


パスワード紛失

アクセスカウンタ
今日 : 8181
昨日 : 6767
総計 : 185103185103185103185103185103185103