メンバー
[ナノデバイス・バイオ融合科学研究所]
教授
横山 新 (運営委員長、責任者)

特任准教授
田部井 哲夫 (主任)

研究員
佐藤 旦

補助職員
山田 真司、岡田 和志

事務補佐員
樋原 純子



技術支援員の保有技術
平成30年4月23日現在
 
支援内容No.装置等名研究員補助職員
佐藤   山田岡田
ナノ構造加工 1超高精度電子ビーム描画装置
(エリオニクス, ELS-G100)
  
2電子ビーム露光装置
(日立, HL700)
  
3i線ステッパ
(ニコン, NIKONi8a)
 
4マスクレス露光装置(ナノシステムソリューションズ, DL-1000) 
5エッチング装置
(神戸製鋼, ECR Si用)
   
6エッチング装置
(神戸製鋼, RIE SiO2用)
   
7エッチング装置
(神戸製鋼, RIE, Al用)
   
8エッチング装置
(YOUTEC, ICP Al用, 12-228PH)
   
9エッチング装置
(YOUTEC, ICP poly-Si ゲート用, 12-228PH)
   
10エッチング装置
(神戸製鋼, CDE SiN用)
   
11エッチング装置
(神戸製鋼, レジスト Ashing用)
 
12エッチング装置
(エイコー, 汎用, VX-20S)
   
13エッチング装置
(住友精密工業, Si深掘用, MUC-21)
  
14エッチング装置
(サムコ, ICP SiO2用, MP-300iP)
  
15表面活性化接合装置
(エイコー, EHB-400)
   
16PDMS加工装置
(魁・THINKEYほか)
 
薄膜形成・不純物導入21 酸化炉3台
(東京エレクトロン, 370MI-MINI)
 
22ウェル拡散炉
(東京エレクトロン, 370MI-MINI)
  
23インプラ後アニール炉
(東京エレクトロン, 370MI-MINI)
  
24燐拡散炉
(神港精機)
  
25汎用熱処理装置
(光洋サーモシステム, KTF 453N-VP)
  
26ポストメタライゼーションアニール(PMA)炉
(神港精機)
  
27Rapid Thermal Anneal 装置
(サムコ, HT-1000)
   
28イオン注入装置
(アルバック, IM-200M)
   
29スパッタ装置
(エイコー, Al用)
   
30スパッタ装置
(エイコー, Cu用)
   
31スパッタ装置
(エイコー, 汎用)
   
32LPCVD装置
(東京エレクトロン, poly-Si用)
   
33LPCVD装置
(東京エレクトロン, SiN用)
  
34LPCVD装置
(東京エレクトロン, SiO2用)
   
35プラズマCVD(PECVD)装置
(アルパック)
   
36常圧SiO2CVD装置
(天谷製作所, M01)
   
ナノ構造パターン設計41レイアウト設計ツール 
分析・評価・測定
(試作の過程および
最終的に完成した段階で使用)
51走査型顕微鏡:SEM
(日立, S-4700)
 
52二次イオン質量分析装置:SIMS
(アルバックファイ, SIMS6650)
   
53原子間力顕微鏡:AFM
(セイコーインスツルメンツ, SPI3800)
 
54干渉式膜厚計
(日本ナノメトリクス, AFT 5000)
 
55分光エリプソメーター
(J. A. Woollam Japan, M2000-D)
 
56デバイス測定装置
(HP4156, 3台, プローバ3台 含む)
 
57低温測定装置
(Desert HYTT-01)
   
58ロジックアナライザ他
  
59表面段差計
(デクタック, Dektak3ST)
  
60ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
(日新ハイボルテージ, AN-2000H)
   
61薄膜構造評価X線解析装置(XRD)
(リガク, ATX-E)
   
62蛍光X線分析装置(XRF)
(リガク, ZST-400)
   
63X線光電子分光装置(XPS)
(クレイトスアナリティカル, ESCA-3400)
   
64ホール効果測定装置
(ACCENT, HL5500PC)
  
65光学スペクトル測定装置
( , )
   


*○印の記載がない装置に関しては、その他関連スタッフが対応いたします。

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