メンバー
[ナノデバイス・バイオ融合科学研究所]

教授
黒木 伸一郎 (運営委員長、責任者)

特任准教授
田部井 哲夫
助教
佐藤 旦

推進員
山田 真司(窓口)
補助職員
岡田 和志

技術職員
西山 文隆

事務補佐員
樋原 純子



技術支援員の保有技術
2020年6月2日現在
 
支援内容No.装置等名支援教員研究員
田部井佐藤山田岡田
ナノ構造加工 1超高精度電子ビーム描画装置
(エリオニクス, ELS-G100)
 
3i線ステッパ
(ニコン, NIKONi8a)
4マスクレス露光装置(ナノシステムソリューションズ, DL-1000) 
5エッチング装置
(神戸製鋼, ECR Si用)
  
6エッチング装置
(神戸製鋼, RIE SiO2用)
  
7汎用プラズマ処理装置
(神戸製鋼, プラズマ暴露用)
 
8エッチング装置
(YOUTEC, ICP Al用, 12-228PH)
  
9エッチング装置
(YOUTEC, ICP poly-Si ゲート用, 12-228PH)
  
10エッチング装置
(神戸製鋼, CDE SiN用)
 
11エッチング装置
(神戸製鋼, レジスト Ashing用)
12エッチング装置
(エイコー, 汎用, VX-20S)
  
13エッチング装置
(住友精密工業, Si深掘用, MUC-21)
 
14エッチング装置
(サムコ, ICP SiO2用, MP-300iP)
 
15表面活性化接合装置
(エイコー, EHB-400)
   
16PDMS加工装置
(魁・THINKEYほか)
17ダイサー
(DISCO DAD322)
 
薄膜形成・不純物導入21 酸化炉3台
(東京エレクトロン, 370MI-MINI)
22ウェル拡散炉
(東京エレクトロン, 370MI-MINI)
23インプラ後アニール炉
(東京エレクトロン, 370MI-MINI)
24燐拡散炉
(神港精機)
25汎用熱処理装置
(光洋サーモシステム, KTF 453N-VP)
 
26ポストメタライゼーションアニール(PMA)炉
(神港精機)
27Rapid Thermal Anneal 装置
(サムコ, HT-1000)
   
28連続発振レーザアニール装置(レーザ結晶化装置)
(自作)
黒木   
29イオン注入装置
(アルバック, IM-200M)
  
30スパッタ装置
(エイコー, Al用)
 
31スパッタ装置
(エイコー, Cu用)
  
32スパッタ装置
(エイコー, 汎用)
  
33LPCVD装置
(東京エレクトロン, poly-Si用)
  
34LPCVD装置
(東京エレクトロン, SiN用)
 
35LPCVD装置
(東京エレクトロン, SiO2用)
  
36プラズマCVD(PECVD)装置
(アルパック)
    
36ICP - CVD装置
(アユミ工業)
   
36CCP - CVD装置
(アユミ工業)
   
36リモートPECVD装置
(アユミ工業)
    
40常圧SiO2CVD装置
(天谷製作所, M01)
  
41真空蒸着装置
(アルバック, )
ナノ構造パターン設計51レイアウト設計ツール
分析・評価・測定
(試作の過程および
最終的に完成した段階で使用)
61走査型顕微鏡:SEM
(日立, S-4700)
62EBSD解析装置
(日本電子JSM-7100F))
    
63二次イオン質量分析装置:SIMS
(アルバックファイ, SIMS6650)
   
64原子間力顕微鏡:AFM
(セイコーインスツルメンツ, SPI3800)
65干渉式膜厚計
(日本ナノメトリクス, AFT 5000)
66分光エリプソメーター
(J. A. Woollam Japan, M2000-D)
67デバイス測定装置
(HP4156, 3台, プローバ3台 含む)
 
68低温測定装置
(Desert HYTT-01)
   
69ロジックアナライザ他
  
70表面段差計
(デクタック, Dektak3ST)
 
71ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
(日新ハイボルテージ, AN-2000H)
 西山 
72薄膜構造評価X線解析装置(XRD)
(リガク, ATX-E)
   
73蛍光X線分析装置(XRF)
(リガク, ZST-400)
   
74X線光電子分光装置(XPS)
(クレイトスアナリティカル, ESCA-3400)
   
75ホール効果測定装置
(ACCENT, HL5500PC)
 
76光学スペクトル測定装置
( , )
   


*○印の記載がない装置に関しては、その他関連スタッフが対応いたします。

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