メンバー
[ナノデバイス・バイオ融合科学研究所]
技術支援員の保有技術
2021年4月1日現在
*○印の記載がない装置に関しては、その他関連スタッフが対応いたします。
連絡先はこちらを御覧下さい。
教授
黒木 伸一郎 （運営委員長、責任者）
特任准教授
田部井 哲夫
助教
佐藤 旦
推進員
山田 真司（窓口）
研究員
水野 恭司
技術職員
西山 文隆
事務補佐員
樋原 純子
技術支援員の保有技術
2021年4月1日現在
| 支援内容 | No. | 装置等名 | 支援教員 | 研究員 | 田部井 | 佐藤 | 山田 | 水野 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| ナノ構造加工 | 1 | 超高精度電子ビーム描画装置 （エリオニクス, ELS-G100） | ○ | ○ | ||
| 3 | i線ステッパ （ニコン, NIKONi8a） | ○ | ○ | |||
| 4 | マスクレス露光装置（ナノシステムソリューションズ, DL-1000） | ○ | ||||
| 5 | エッチング装置 （神戸製鋼, ECR Si用） | ○ | ○ | |||
| 6 | エッチング装置 （神戸製鋼, RIE SiO2用） | ○ | ○ | |||
| 7 | 汎用プラズマ処理装置 （神戸製鋼, プラズマ暴露用） | ○ | ○ | |||
| 8 | エッチング装置 （YOUTEC, ICP Al用, 12-228PH） | ○ | ○ | |||
| 9 | エッチング装置 （YOUTEC, ICP poly-Si ゲート用, 12-228PH） | ○ | ○ | |||
| 10 | エッチング装置 （神戸製鋼, CDE SiN用） | ○ | ○ | ○ | ||
| 11 | エッチング装置 （神戸製鋼, レジスト Ashing用） | ○ | ○ | ○ | ||
| 12 | エッチング装置 （エイコー, 汎用, VX-20S） | ○ | ○ | |||
| 13 | エッチング装置 （住友精密工業, Si深掘用, MUC-21） | ○ | ○ | |||
| 14 | エッチング装置 （サムコ, ICP SiO2用, MP-300iP） | ○ | ○ | ○ | ||
| 15 | 表面活性化接合装置 （エイコー, EHB-400） | |||||
| 16 | PDMS加工装置 （魁･THINKEYほか） | ○ | ○ | ○ | ||
| 17 | ダイサー （DISCO DAD322） | ○ | ||||
| 薄膜形成・不純物導入 | 21 | 酸化炉3台 （東京エレクトロン, 370MI-MINI） | ○ | ○ | ○ | |
| 22 | ウェル拡散炉 （東京エレクトロン, 370MI-MINI） | ○ | ○ | ○ | ||
| 23 | インプラ後アニール炉 （東京エレクトロン, 370MI-MINI） | ○ | ○ | ○ | ||
| 24 | 燐拡散炉 （神港精機） | ○ | ○ | ○ | ||
| 25 | 汎用熱処理装置 （光洋サーモシステム, KTF 453N-VP) | ○ | ○ | ○ | ||
| 26 | ポストメタライゼーションアニール（PMA）炉 （神港精機) | ○ | ○ | ○ | ||
| 27 | Rapid Thermal Anneal 装置 （サムコ, HT-1000） | ○ | ||||
| 28 | 連続発振レーザアニール装置（レーザ結晶化装置） （自作） | 黒木 | ||||
| 29 | イオン注入装置 （アルバック, IM-200M） | ○ | ○ | ○ | ||
| 30 | スパッタ装置 （エイコー, Al用） | ○ | ○ | ○ | ||
| 31 | スパッタ装置 （エイコー, Cu用） | ○ | ○ | |||
| 32 | スパッタ装置 （エイコー, 汎用） | ○ | ○ | |||
| 33 | LPCVD装置 （東京エレクトロン, poly-Si用） | ○ | ○ | |||
| 34 | LPCVD装置 （東京エレクトロン, SiN用） | ○ | ○ | ○ | ||
| 35 | LPCVD装置 （東京エレクトロン, SiO2用） | ○ | ○ | |||
| 36 | プラズマCVD(PECVD)装置 （アルパック） | |||||
| 36 | ICP - CVD装置 （アユミ工業） | C1棟 | ||||
| 36 | CCP - CVD装置 （アユミ工業） | C1棟 | ||||
| 36 | リモートPECVD装置 （アユミ工業） | C1棟 | ||||
| 40 | 常圧SiO2CVD装置 （天谷製作所, M01） | ○ | ○ | |||
| 41 | 真空蒸着装置 （アルバック, ） | ○ | ○ | ○ | ||
| ナノ構造パターン設計 | 51 | レイアウト設計ツール | ○ | ○ | ○ | ○ |
| 分析・評価・測定 （試作の過程および 最終的に完成した段階で使用） |
61 | 走査型顕微鏡：SEM （日立, S-4700） | ○ | ○ | ○ | 62 | EBSD解析装置 （日本電子JSM-7100F)） | C1棟 |
| 63 | 二次イオン質量分析装置：SIMS （アルバックファイ, SIMS6650） | ○ | ||||
| 64 | 原子間力顕微鏡：AFM （セイコーインスツルメンツ, SPI3800） | ○ | ○ | ○ | ||
| 65 | 干渉式膜厚計 （日本ナノメトリクス, AFT 5000） | ○ | ○ | ○ | ||
| 66 | 分光エリプソメーター （J. A. Woollam Japan, M2000-D） | ○ | ○ | ○ | ||
| 67 | デバイス測定装置 （HP4156, 3台, プローバ3台 含む） | ○ | ○ | ○ | ||
| 68 | 低温測定装置 （Desert HYTT-01） | |||||
| 69 | ロジックアナライザ他 | |||||
| 70 | 表面段差計 （デクタック, Dektak3ST） | ○ | ○ | |||
| 71 | ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置 （日新ハイボルテージ, AN-2000H） | 西山 | ||||
| 72 | 薄膜構造評価X線解析装置（XRD） （リガク, ATX-E） | ○ | ||||
| 73 | 蛍光X線分析装置（XRF） （リガク, ZST-400） | ○ | ||||
| 74 | X線光電子分光装置（XPS） （クレイトスアナリティカル, ESCA-3400） | ○ | ||||
| 75 | ホール効果測定装置 （ACCENT, HL5500PC） | ○ | ○ | ○ | ||
| 76 | 光学スペクトル測定装置 （ , ） | ○ | ||||
*○印の記載がない装置に関しては、その他関連スタッフが対応いたします。
連絡先はこちらを御覧下さい。
メインメニュー
ログイン
アクセスカウンタ
| 今日 : |   |
| 昨日 : |   |
| 総計 : |   |