広島大学募集テーマ：SiMOSトランジスタ・IC作製実習

期 間：2015年8月3日(月)〜8日(土）6日間
場 所：広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/

内容：NMOSトランジスタをベースとしたICの試作実習を通じて、プロセス基礎技術とトランジスタ・回路の基本技術の全体像についての知識を深めます。また、それぞれの試作課程ではイオン注入、酸化、リソグラフィー、エッチングなど基本技術について学びます。

ナノテクノロジープラットフォームの事業として、学生研修プログラムの参加者を募集しています。
関心をお持ちの方々の参加を歓迎致します。

パンフレットはこちら(pdf形式)


■参加費：無料、旅費、宿泊費支給
■お申し込み先：Web: http://nanonet.mext.go.jp/gakusei/h27/
■応募締切　:5月29日（金) *受付は終了しました。

■お問合せ：yokoyama-shin@hiroshima-u.ac.jp（横山 新）
　　　　　　広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
　　　　　　Web: http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/ （研究所）

広島大学募集テーマ：SiMOSトランジスタ・IC作製実習

場 所：広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

研修内容：NMOSトランジスタをベースとしたICの試作実習を通じて、プロセス基礎技術とトランジスタ・回路の基本技術全体を学ぶ。イオン注入、酸化、リソグラフィー、エッチングなど基本技術を学ぶ。

ナノテクノロジープラットフォームの事業として、学生研修プログラムの参加者を募集しています。関心をお持ちの方々の参加を歓迎致します。

パンフレットはこちら(pdf形式)


■参加費：無料、旅費、宿泊費支給

■お申し込み先：Web: http://nanonet.mext.go.jp/gakusei/h26/ 応募締切　5月30日（金)

■お問合せ：yokoyama-shin@hiroshima-u.ac.jp（横山 新）
　　　　　　　　広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
　　　　　　　　Web: http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/ （研究所）

SOIウェハを用いて10nmの微細レジストラインパターンを描いた後、Siをエッチングして微細構造を形成し、その電気的特性を観測します。

文部科学省ナノテクノロジープラットフォームの事業として、無料および有料の電子ビームリソグラフィ実習の参加者を募集しています。関心をお持ちの方々の参加を歓迎致します。

パンフレットはこちら(pdf形式)


■参加費：3万円/人

■お申し込み先：Web: https://nanoworld.jp/npf/training/h26-1/ 応募締切6月5日（木）

■お問合せ：yokoyama-shin@hiroshima-u.ac.jp（横山 新）
　　　　　　　　広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
　　　　　　　　Web: http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/ （研究所）

エリオニクスG-100を用いて10nmの微細レジストライン/スペースパターンを描く方法を習得します。

文部科学省ナノテクノロジープラットフォームの事業として、無料および有料の電子ビームリソグラフィ実習の参加者を募集しています。関心をお持ちの方々の参加を歓迎致します。

パンフレットはこちら(pdf形式)


■参加費：無料

■お申し込み先：Web: https://nanoworld.jp/npf/training/h26-1/ 応募締切6月5日（木）

■お問合せ：yokoyama-shin@hiroshima-u.ac.jp（横山 新）
　　　　　　　　広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
　　　　　　　　Web: http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/ （研究所）

名古屋大学大学院工学研究科マイクロ・ナノシステム工学専攻教授の佐藤一雄先生を講師に招き、上記のテーマで講演していただきます。

ナノデバイス・バイオ融合科学研究所セミナーとして、関心をお持ちの方々の聴講を歓迎致します。

■参加費：無料

■問い合わせ先：kasama(at)hiroshima-u.ac.jp