プロジェクト概要

新技術でSiドライバICに接合された薄膜LED Si基板上に付着した微粒子 TiN /Alマスクにより形成したローソク型ダイヤモンドナノ突起
上の画像をクリックすると、詳細を見られます。
<概要>
 文部科学省のナノテクノロジープラットフォームプロジェクトの一環として、広島大学(ナノデバイス・バイオ融合科学研究所・先端物質科学研究科)では超微細構造形成 のための支援を行います。広島大学では、研究所の保有する電子ビーム露光装置を用いたゲート長数十nmの超微細トランジスタの設計・製作技術を支援に活用すると共に、ナノ構造形成プロセスおよびそれを利用した超微細デバイスに関する技術相談(随時受付)にも応じます。



<支援内容>
(1)ナノ構造加工・MEMS構造加工およびプロセス設計
(2)薄膜形成・不純物導
(3)ナノ構造パターン設計
(4)シリコンナノドット関連



<支援形態>
(A) 共同研究
(B) 機器利用
(C) 技術代行
(D) 技術相談
(E) 技術補助
(F) 試行的利用


それぞれの支援形態の詳しい内容については採択基準と支援形態をご覧ください。
利用できる装置につきましては、機器一覧をご覧ください。


<広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所の紹介>
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所のスーパークリーンルームに設置された、電子線描画装置を始めとするデバイス試作ラインを用いて、共同研究 機器利用 技術代行 技術相談 技術補助 を実施します。
・2インチシリコンウェハを用いて、30nmの超微細加工が可能です。
 シリコン以外の材料に対しても可能な限り対応します。
・N&MEMS技術、バイオ関連デバイスに関しても、本学 先端物質科学研究科
 などと連携して異分野融合を推進し高度で多様な支援を提供します。
・学内社会連携推進機構や社会人教育プログラムを通じて産学連携を推進し
 利用者の拡大に努めています。
これまでの支援成果例として、プリンタ用レーザヘッドの低コスト製造法(エピフィルムボンディング法)の実用化(2007年内閣総理大臣表彰 「ものづくり大賞」優秀賞受賞)やシランプラズマ中のダスト微粒子抑制法(2006年日本エアロゾル学会論文賞受賞)などがあり、 日本のナノテクノロジーの発展に少なからず貢献できたものと自負しております。今後とも、多くの方々に本支援プロジェクトをご利用いただき、日本のナノテクノロジー発展に貢献できれば幸いと存じます。 ぜひ、貴機関の関連研究者の方々にご周知くださるようお願いいたしします。 なお、 ホームページには本要項記載の内容及び申請書式が掲載されておりますので、ダウンロードしてご利用ください。




参加者募集中のイベント

ナノテクノロジープラットフォーム 平成28年度 学生研修プログラム
広島大学募集テーマ:SiMOSトランジスタ・IC作製実習


期 間:2016年8月1日(月)〜6日(土)6日間
場 所:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/
内容:NMOSトランジスタをベースとしたICの試作実習を通じて、プロセス基礎技術とトランジスタ・回路の基本技術の全体像についての知識を深めます。 また、それぞれの試作課程ではイオン注入、酸化、リソグラフィー、エッチングなど基本技術について学びます。

ナノテクノロジープラットフォームの事業として、学生研修プログラムの参加者を募集しています。
関心をお持ちの方々の参加を歓迎致します。
パンフレットはこちら(pdf形式)
■参加費:無料、旅費、宿泊費支給
■お申し込み先:Web: http://nanonet.mext.go.jp/gakusei/h28/
■応募締切 :5月31日(火)
■お問合せ:yokoyama-shin@hiroshima-u.ac.jp(横山 新)
      広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
      Web: http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/(研究所)