プロジェクト概要


新しいウェブページに移転しました。

ARIM事業の開始に伴い、新たなウェブページに移転しました。

こちら (https://arim.hiroshima-u.ac.jp/) から
アクセスをよろしくお願いいたします。



新技術でSiドライバICに接合された薄膜LED Si基板上に付着した微粒子 TiN /Alﾏｽｸにより形成したﾛｰｿｸ型ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞﾅﾉ突起
上の画像をクリックすると、詳細を見られます。


＜イベント速報＞

＜ARIM 令和4年度 学生研修プログラム（オンラインも検討中）参加募集中＞
　　日時：2022年7月25日(月)〜7月30日(土)
　　開催場所：広島大学ナノデバイス研究所（オンラインも検討中）
詳細は、こちらをご覧ください。



＜概要＞
　文部科学省のマテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）のプロジェクトの一環として、
広島大学（ナノデバイス研究所）では
超微細構造形成 のための支援を行います。
広島大学では、研究所の保有する電子ビーム露光装置を用いたゲート長
数十nmの超微細トランジスタの設計・製作技術を支援に活用すると共に、
ナノ構造形成プロセスおよびそれを利用した超微細デバイスに関する
技術相談(随時受付)にも応じます。

＜支援内容＞
(1)ナノ構造加工・MEMS構造加工およびプロセス設計
(2)薄膜形成・不純物導入
(3)ナノ構造パターン設計
(4)シリコンナノドット関連

＜支援形態＞
(A) 共同研究
(B) 機器利用
(C) 技術代行
(D) 技術相談
(E) 技術補助
(F) データ利用
それぞれの支援形態の詳しい内容については＜採択基準と支援形態＞をご覧ください。
利用できる装置につきましては、＜機器一覧＞をご覧ください。

ご利用の流れは、ご利用の流れ(pdf)をご覧ください。

＜広島大学ナノデバイス研究所の紹介＞
広島大学ナノデバイス研究所のスーパークリーンルームに
設置された電子線描画装置を始めとするデバイス試作ラインを用いて、
共同研究　機器利用　技術代行　技術相談　技術補助　データ利用 を実施します。
・2インチシリコンウェハを用いて、30nmの超微細加工が可能です。
　シリコン以外の材料に対しても可能な限り対応します。
・N&MEMS技術、バイオ関連デバイスに関しても、
　異分野融合を推進し高度で多様な支援を提供します。
・学内社会連携推進機構や社会人教育プログラムを通じて産学連携を推進し
　利用者の拡大に努めています。

これまでの支援成果例として、
プリンタ用レーザヘッド低コスト製造法（エピフィルムボンディング法）の実用化
　（2007年内閣総理大臣表彰 「ものづくり大賞」優秀賞受賞）や
シランプラズマ中のダスト微粒子抑制法
　　（2006年日本エアロゾル学会論文賞受賞）などがあり、
日本のナノテクノロジーの発展に少なからず貢献できたものと自負しております。
今後とも、多くの方々に本支援プロジェクトをご利用いただき、日本のナノテクノロジー発展に貢献できれば幸いと存じます。
ぜひ、貴機関の関連研究者の方々にご周知くださるようお願いいたしします。
なお、本要項記載の内容及び申請書式は、 ＜こちらのページ＞ からダウンロードしてご利用ください。

連絡先は、 ＜こちらのページ＞をご覧ください。