平成２６年度ナノテクノロジープラットフォーム　支援一覧表

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課題番号支援期間支援形態支援依頼機関研究課題
F-14-RO-0001H26,4/17〜H27,3/31（C）技術代行旭化成メディカル株式会社ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための微細流路
F-14-RO-0002H26,5/1〜H27,3/31（C）技術代行旭化成メディカル株式会社ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための試験デバイス開発
F-14-RO-0003H26,5/1〜H26,7/31（D）技術相談ＭＫイノベーションズ新太陽電池及びその製造方法
F-14-RO-0004H26,5/8〜H27,3/31（C）技術代行高知工科大学酸化物半導体/絶縁膜界面制御に関する研究
F-14-RO-0005H26,5/12〜H27,3/31（C）技術代行広島大学ラザフォード後方散乱法を用いた低温成長InxGa1-xAs の結晶構造の作製及び解析
F-14-RO-0006H26,5/8〜H27,3/31（C）技術代行東北学院大学自己整合メタルダブルゲート低温poly-Si トンネルTFT の開発
F-14-RO-0007H26,5/15〜H26,6/30（A）共同研究広島大学マイクロ流量制御に向けたシリンジポンプの作製及び特性解析
F-14-RO-0008H26,5/20〜H27,3/31（A）共同研究京都工芸繊維大学金属ナノ粒子を利用した環境反応材料の開発
F-14-RO-0009H26,5/22〜H27,3/31（B）機器利用広島大学積層構造に依存したグラフェンの電子構造の研究
F-14-RO-0010H26,5/22〜H27,3/31（B）機器利用広島大学BN 多層グラフェン素子の作製と電子構造の研究
F-14-RO-0011H26,5/22〜H27,3/31（B）機器利用広島大学原子層膜の表面電気伝導の研究
F-14-RO-0012H26,5/22〜H27,3/31（B）機器利用広島大学高移動度グラフェン素子の作製と量子輸送現象の研究
F-14-RO-0013H26,5/22〜H27,3/31（B）機器利用広島大学BN 上の多細孔グラフェン素子の量子伝導の研究
F-14-RO-0014H26,6/16〜H27,3/31（E）技術補助(株)トクヤマシリコンのドライエッチング速度に関する基礎検討
F-14-RO-0015H26,7/1〜H27,3/31（E）技術補助広島大学THz 波デバイスの作製
F-14-RO-0016H26,6/23〜H26,6/25（E）技術補助東北大学電子ビーム描画による単電子トランジスタの作製および室温クーロン振動の測定
F-14-RO-0017H26,6/23〜H26,6/25（E）技術補助兵庫県立大学単電子トランジスタの作製および室温クーロン振動の測定
F-14-RO-0019H26,7/10〜H27,3/31（A）共同研究広島大学モアレ縞を用いたひずみ可視化デバイスの開発
F-14-RO-0020H26,7/10〜H27,3/31（C）技術代行奈良先端科学技術大学院大学石英基板上への非晶質シリコン薄膜堆積
F-14-RO-0021H26,7/22〜H26,12/26（C）技術代行広島大学超臨界蒸着により作製した金属薄膜の表面抵抗の測定
F-14-RO-0022H26,7/22〜H26,12/26（C）技術代行広島大学超臨界二酸化炭素を利用した微細空間内へのポリイミドの成膜・埋め込み法の開発
F-14-RO-0024H26,10/1〜H27,1/30（A）共同研究兵庫県立大学DNA/Si メモリートランジスタの基板作製・評価 (イオン注入処理によるSi アイランドの低抵抗化)
F-14-RO-0025H26,10/1〜H27,1/30（A）共同研究兵庫県立大学DNA/Si メモリートランジスタの基板作製・評価(EB 描画を用いたDNA チャネルの微細加工)
F-14-RO-0026H26,10/1〜H27,1/30（A）共同研究兵庫県立大学DNA/Si メモリートランジスタの基板作製・評価 (DNA トランジスタ作製)
F-14-RO-0027H26,10/1〜H27,3/31（A）共同研究パックビジョン株式会社ナノ平坦表面接合技術の応用研究
F-14-RO-0028H26,10/1〜H26,12/26（C）技術代行東京大学紙を用いた医療用マイクロ分析チップの研究（Si 型作製）
F-14-RO-0029H26,10/1〜H26,12/26（C）技術代行東京大学紙を用いた医療用マイクロ分析チップの研究（Si 型観測）
F-14-RO-0030H26,10/2〜H27,3/31（A）共同研究群馬大学LPCVD 法による多層膜PIN太陽電池の試作
F-14-RO-0031H26,11/6〜H27,3/31（B）機器利用広島大学低温成長InxGa1-xAs の成長とX線回折法を用いたその結晶性の評価
F-14-RO-0033H26,11/6〜H27,2/27（B）機器利用広島大学RBS による硫化物薄膜のストイキオメトリー評価
F-14-RO-0035H26,11/20〜H27,3/31（E）技術補助兵庫県立大学Ge を活性層とする薄膜トランジスタの形成（リソグラフィ）
F-14-RO-0036H26,11/20〜H27,3/31（E）技術補助兵庫県立大学Ge を活性層とする薄膜トランジスタの形成（薄膜形成）
F-14-RO-0037H26,11/20〜H27,3/31（C）技術代行北陸先端科学技術大学院大学熱酸化SiO2 と結晶シリコン界面の原子構造観察
F-14-RO-0038H26,11/25〜H26,12/26（C）技術代行香川高専アルミニウムの表面積増大法の研究
F-14-RO-0039H26,11/27〜H27,3/31（C）技術代行東北学院大学低温poly-Si トンネルTFT のデバイス解析に関する研究
F-14-RO-0040H26,11/27〜H27,3/13（E）技術補助(株)日立ハイテクノロジーズ電子ビーム描画装置による微細パターン形成
F-14-RO-0041H27,1/5〜H27,3/31（B）機器利用広島大学超臨界蒸着法によるCoFe204磁性薄膜の作製
F-14-RO-0042H27,1/5〜H27,3/31（B）機器利用広島大学超臨界蒸着法によるリンドープコバルト薄膜の作製
F-14-RO-0043H27,1/5〜H27,3/31（C）技術代行広島大学超臨界蒸着法により作製したCoFe204磁性薄膜の膜組成分析
F-14-RO-0044H26,12/12〜H27,3/31（C）技術代行三菱樹脂株式会社ラザフォード後方散乱測定装置を用いたDLC 膜の組成分析
F-14-RO-0045H27,1/19〜H27,3/13（B）機器利用(株)日立ハイテクノロジーズ電子ビーム描画装置によるL&S パターンの作製
F-14-RO-0046H27,1/8〜H27,1/17（A）共同研究パックビジョン株式会社青色LED薄膜のナノ転写技術の開発
F-14-RO-0047H27,1/15〜H27,2/27（C）技術代行広島大学超臨界蒸着法によって作製されたコバルト−鉄複合薄膜の結晶構造解析
F-14-RO-0048H27,1/29〜H27,3/31（C）技術代行旭化成メディカル株式会社ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための、濾過膜断面パターンを反映したデバイス開発
F-14-RO-0049H27,2/1〜H27,3/31（B）機器利用広島大学金ナノパターンのプラズモ共鳴におよぼす配列効果研究