平成２６年度ナノテクノロジープラットフォーム 支援一覧表
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| 課題番号 | 支援期間 | 支援形態 | 支援依頼機関 | 研究課題 |
|---|---|---|---|---|
| F-14-RO-0001 | H26,4/17〜H27,3/31 | （C）技術代行 | 旭化成メディカル株式会社 | ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための微細流路 |
| F-14-RO-0002 | H26,5/1〜H27,3/31 | （C）技術代行 | 旭化成メディカル株式会社 | ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための試験デバイス開発 |
| F-14-RO-0003 | H26,5/1〜H26,7/31 | （D）技術相談 | ＭＫイノベーションズ | 新太陽電池及びその製造方法 |
| F-14-RO-0004 | H26,5/8〜H27,3/31 | （C）技術代行 | 高知工科大学 | 酸化物半導体/絶縁膜界面制御に関する研究 |
| F-14-RO-0005 | H26,5/12〜H27,3/31 | （C）技術代行 | 広島大学 | ラザフォード後方散乱法を用いた低温成長InxGa1-xAs の結晶構造の作製及び解析 |
| F-14-RO-0006 | H26,5/8〜H27,3/31 | （C）技術代行 | 東北学院大学 | 自己整合メタルダブルゲート低温poly-Si トンネルTFT の開発 |
| F-14-RO-0007 | H26,5/15〜H26,6/30 | （A）共同研究 | 広島大学 | マイクロ流量制御に向けたシリンジポンプの作製及び特性解析 |
| F-14-RO-0008 | H26,5/20〜H27,3/31 | （A）共同研究 | 京都工芸繊維大学 | 金属ナノ粒子を利用した環境反応材料の開発 |
| F-14-RO-0009 | H26,5/22〜H27,3/31 | （B）機器利用 | 広島大学 | 積層構造に依存したグラフェンの電子構造の研究 |
| F-14-RO-0010 | H26,5/22〜H27,3/31 | （B）機器利用 | 広島大学 | BN 多層グラフェン素子の作製と電子構造の研究 |
| F-14-RO-0011 | H26,5/22〜H27,3/31 | （B）機器利用 | 広島大学 | 原子層膜の表面電気伝導の研究 |
| F-14-RO-0012 | H26,5/22〜H27,3/31 | （B）機器利用 | 広島大学 | 高移動度グラフェン素子の作製と量子輸送現象の研究 |
| F-14-RO-0013 | H26,5/22〜H27,3/31 | （B）機器利用 | 広島大学 | BN 上の多細孔グラフェン素子の量子伝導の研究 |
| F-14-RO-0014 | H26,6/16〜H27,3/31 | （E）技術補助 | (株)トクヤマ | シリコンのドライエッチング速度に関する基礎検討 |
| F-14-RO-0015 | H26,7/1〜H27,3/31 | （E）技術補助 | 広島大学 | THz 波デバイスの作製 |
| F-14-RO-0016 | H26,6/23〜H26,6/25 | （E）技術補助 | 東北大学 | 電子ビーム描画による単電子トランジスタの作製および室温クーロン振動の測定 |
| F-14-RO-0017 | H26,6/23〜H26,6/25 | （E）技術補助 | 兵庫県立大学 | 単電子トランジスタの作製および室温クーロン振動の測定 |
| F-14-RO-0019 | H26,7/10〜H27,3/31 | （A）共同研究 | 広島大学 | モアレ縞を用いたひずみ可視化デバイスの開発 |
| F-14-RO-0020 | H26,7/10〜H27,3/31 | （C）技術代行 | 奈良先端科学技術大学院大学 | 石英基板上への非晶質シリコン薄膜堆積 |
| F-14-RO-0021 | H26,7/22〜H26,12/26 | （C）技術代行 | 広島大学 | 超臨界蒸着により作製した金属薄膜の表面抵抗の測定 |
| F-14-RO-0022 | H26,7/22〜H26,12/26 | （C）技術代行 | 広島大学 | 超臨界二酸化炭素を利用した微細空間内へのポリイミドの成膜・埋め込み法の開発 |
| F-14-RO-0024 | H26,10/1〜H27,1/30 | （A）共同研究 | 兵庫県立大学 | DNA/Si メモリートランジスタの基板作製・評価 (イオン注入処理によるSi アイランドの低抵抗化) |
| F-14-RO-0025 | H26,10/1〜H27,1/30 | （A）共同研究 | 兵庫県立大学 | DNA/Si メモリートランジスタの基板作製・評価(EB 描画を用いたDNA チャネルの微細加工) |
| F-14-RO-0026 | H26,10/1〜H27,1/30 | （A）共同研究 | 兵庫県立大学 | DNA/Si メモリートランジスタの基板作製・評価 (DNA トランジスタ作製) |
| F-14-RO-0027 | H26,10/1〜H27,3/31 | （A）共同研究 | パックビジョン株式会社 | ナノ平坦表面接合技術の応用研究 |
| F-14-RO-0028 | H26,10/1〜H26,12/26 | （C）技術代行 | 東京大学 | 紙を用いた医療用マイクロ分析チップの研究（Si 型作製） |
| F-14-RO-0029 | H26,10/1〜H26,12/26 | （C）技術代行 | 東京大学 | 紙を用いた医療用マイクロ分析チップの研究（Si 型観測） |
| F-14-RO-0030 | H26,10/2〜H27,3/31 | （A）共同研究 | 群馬大学 | LPCVD 法による多層膜PIN太陽電池の試作 |
| F-14-RO-0031 | H26,11/6〜H27,3/31 | （B）機器利用 | 広島大学 | 低温成長InxGa1-xAs の成長とX線回折法を用いたその結晶性の評価 |
| F-14-RO-0033 | H26,11/6〜H27,2/27 | （B）機器利用 | 広島大学 | RBS による硫化物薄膜のストイキオメトリー評価 |
| F-14-RO-0035 | H26,11/20〜H27,3/31 | （E）技術補助 | 兵庫県立大学 | Ge を活性層とする薄膜トランジスタの形成（リソグラフィ） |
| F-14-RO-0036 | H26,11/20〜H27,3/31 | （E）技術補助 | 兵庫県立大学 | Ge を活性層とする薄膜トランジスタの形成（薄膜形成） |
| F-14-RO-0037 | H26,11/20〜H27,3/31 | （C）技術代行 | 北陸先端科学技術大学院大学 | 熱酸化SiO2 と結晶シリコン界面の原子構造観察 |
| F-14-RO-0038 | H26,11/25〜H26,12/26 | （C）技術代行 | 香川高専 | アルミニウムの表面積増大法の研究 |
| F-14-RO-0039 | H26,11/27〜H27,3/31 | （C）技術代行 | 東北学院大学 | 低温poly-Si トンネルTFT のデバイス解析に関する研究 |
| F-14-RO-0040 | H26,11/27〜H27,3/13 | （E）技術補助 | (株)日立ハイテクノロジーズ | 電子ビーム描画装置による微細パターン形成 |
| F-14-RO-0041 | H27,1/5〜H27,3/31 | （B）機器利用 | 広島大学 | 超臨界蒸着法によるCoFe204磁性薄膜の作製 |
| F-14-RO-0042 | H27,1/5〜H27,3/31 | （B）機器利用 | 広島大学 | 超臨界蒸着法によるリンドープコバルト薄膜の作製 |
| F-14-RO-0043 | H27,1/5〜H27,3/31 | （C）技術代行 | 広島大学 | 超臨界蒸着法により作製したCoFe204磁性薄膜の膜組成分析 |
| F-14-RO-0044 | H26,12/12〜H27,3/31 | （C）技術代行 | 三菱樹脂株式会社 | ラザフォード後方散乱測定装置を用いたDLC 膜の組成分析 |
| F-14-RO-0045 | H27,1/19〜H27,3/13 | （B）機器利用 | (株)日立ハイテクノロジーズ | 電子ビーム描画装置によるL&S パターンの作製 |
| F-14-RO-0046 | H27,1/8〜H27,1/17 | （A）共同研究 | パックビジョン株式会社 | 青色LED薄膜のナノ転写技術の開発 |
| F-14-RO-0047 | H27,1/15〜H27,2/27 | （C）技術代行 | 広島大学 | 超臨界蒸着法によって作製されたコバルト−鉄複合薄膜の結晶構造解析 |
| F-14-RO-0048 | H27,1/29〜H27,3/31 | （C）技術代行 | 旭化成メディカル株式会社 | ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための、濾過膜断面パターンを反映したデバイス開発 |
| F-14-RO-0049 | H27,2/1〜H27,3/31 | （B）機器利用 | 広島大学 | 金ナノパターンのプラズモ共鳴におよぼす配列効果研究 |
