平成２４年度ナノテクノロジープラットフォーム　支援一覧表

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課題番号支援期間支援形態支援依頼機関研究課題
F-12-RO-0001H24,7/19〜H25,3/31（A）共同研究産業技術総合研究所ナノ空間による生体高分子１分子の疑似２次元解析
F-12-RO-0002H24,8/6〜H24,8/10（B）機器利用�蠧�立製作所単結晶シリコンの強度を評価するデバイスの試作
F-12-RO-0003H24,8/6〜H24,8/10（B）機器利用�蠧�立製作所単結晶シリコンの疲労を評価するデバイスの試作
F-12-RO-0004H24,8/2〜H25,3/31（A）共同研究広島大学光デバイス用スポットサイズコンバータの研究
F-12-RO-0005H24,8/2〜H25,3/31（A）共同研究広島大学磁気光学材料を用いた光スイッチの研究
F-12-RO-0006H24,8/2〜H25,3/31（A）共同研究広島大学巨大線状Siグレインを用いた高性能薄膜トランジスタの研究
F-12-RO-0007 （A）共同研究広島大学「公開猶予中」
F-12-RO-0008H24,8/23〜H25,3/31（A）共同研究群馬大学LPCVDを用いた多層トンネル接合型PIN太陽電池基板の試作
F-12-RO-0009H24,8/23〜H25,3/31（A）共同研究群馬大学LPCVD法による一貫薄膜Si/SiO2多層膜形成法の検討
F-12-RO-0010H24,8/23〜H25,3/31（A）共同研究群馬大学LPCVD法による試作多層膜のTEM評価
F-12-RO-0011H24,8/30〜H25,3/31（A）共同研究北海道大学表面プラズモン共鳴を用いたノロウイルスセンサの開発
F-12-RO-0012H24,10/1〜H25,3/31（C）技術代行広島大学マイクロパターン化PDMSスタンプの作製
F-12-RO-0013H24,10/4〜H25,3/31（D）技術相談広島工業大学デバイスシミュレータ（TCADツール）を用いたSi MOSFETのシミュレーション環境の構築
F-12-RO-0014H24,10/9〜H25,3/31（A）共同研究広島大学高速視覚を用いたマイクロデバイスの実時間流速計測システム
F-12-RO-0015H24,10/23〜H25,3/31（C）技術代行大阪大学リン添加Niのジャーマナイド化で形成したNiGe/Ge界面ショットキー障壁評価
F-12-RO-0016H24,10/23〜H25,3/31（C）技術代行大阪大学NiGe層中へのリンイオン注入によるNiGe/Ge界面ショットキー障壁変調
F-12-RO-0017H24,10/23〜H25,3/31（C）技術代行大阪大学Ni/Ge界面へのリンイオン注入によるNiGe/Ge界面ショットキー障壁変調
F-12-RO-0018H24,10/23〜H25,3/31（C）技術代行大阪大学Ge基板への極浅リン注入によるNiGe/Ge界面ショットキー障壁変調
F-12-RO-0019H24,11/1〜H25,3/31（A）共同研究広島大学マイクロピラーを持つマイクロ流路における実時間非定常流れ計測
F-12-RO-0020H24,11/1〜H25,3/31（A）共同研究広島工業大学デバイスシミュレータTCADツールを用いたSi MOSFETとSiC MOSFETのシミュレーションと最適化
F-12-RO-0021H24,11/8〜H25,1/31（E）技術補助兵庫県立大学Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（リソグラフィ）
F-12-RO-0022H24,11/8〜H25,1/31（E）技術補助兵庫県立大学Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（薄膜形成）
F-12-RO-0023H24,11/8〜H25,1/31（E）技術補助兵庫県立大学Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（要素）
F-12-RO-0024H24,11/15〜H25,3/31（E）技術補助広島大学超臨界二酸化炭素を利用したポリイミド微細加工技術の開発（XPS）
F-12-RO-0025H24,11/15〜H25,3/31（C）技術代行広島大学超臨界二酸化炭素を利用したポリイミド微細加工技術の開発(Alスパッター)
F-12-RO-0026H24,12/13〜H25,3/31（A）共同研究広島大学前方散乱分析法による硬質CrMo合金めっき皮膜中の水素の分析
F-12-RO-0027H24,12/12〜H25,3/31（C）技術代行琉球大学RFスパッタ法を用いた高品質ゲート絶縁膜の形成と評価
F-12-RO-0028H24,12/12〜H25,3/31（C）技術代行名古屋大学リモート水素プラズマ支援によるFeおよびFeシリサイドナノ構造の高密度形成
F-12-RO-0029H25,1/4〜H25,3/31（C）技術代行岡山大学ソフトリソグラフィーを用いた平面パッチクランプ用電極の量産化
F-12-RO-0030H24,12/15〜H25,3/31（A）共同研究広島大学窒化物薄膜の構造と物性
F-12-RO-0031H24,12/20〜H25,3/31（A）共同研究広島大学マイクロ流路内の流速変化に伴う粒子の形状特性の実時間計測
F-12-RO-0032H24,12/27〜H25,3/31（A）共同研究広島工業大学光入射位置および入射角度検出可能なセンサデバイスの作製
F-12-RO-0033H24,12/27〜H25,1/15（A）共同研究広島大学PIXE法（イオン加速器）を用いる軽元素の定性･定量分析
F-12-RO-0034H25,1/7〜H25,3/31（A）共同研究島根大学微細構造シリコンにおける増強ラマン散乱効果の研究
F-12-RO-0035H25,2/1〜H25,3/31（A）共同研究京都工芸繊維大学金属ナノ粒子を利用した環境反応材料の開発
F-12-RO-0036H25,2/5〜H25,3/31（A）共同研究広島大学マイクロ流路内の流速分布及び粒子特性の実時間計測
F-12-RO-0037H25,2/5（D）技術相談�蠧�立国際電気半導体デバイスにおける薄膜形成プロセス開発に関する相談
F-12-RO-0038H25,2/6（D）技術相談�蠧�立国際電気半導体デバイスにおける高誘電率薄膜形成プロセス開発に関する相談