| 申請者 | 研究課題名 |
|---|
| 青柳誠司（関西大学システム理工学部） | ナノマシン技術を用いたMOSFET型慣性力センサの開発 |
| 鈴木昌人（関西大学システム理工学部） | 薄膜トランジスタを利用した慣性力センサの研究 |
| 鈴木昌人（関西大学システム理工学部） | ナノスケールSi光導波炉を利用した慣性力センサの研究 |
| 本岡輝昭（九州大学大学院工学研究院） | SOI基盤上のナノ加工によるシリコンベース温度無依存アレイ導波路グレーティングの試作と評価 |
| 田中武（広島工業大学電子情報工学科） | CMOS半導体のマニュアルプローバによる電気的特性の測定 |
| 松尾直人（兵庫県立大学大学院工学研究科） | ソース・ドレイン間に極薄SiNx膜を用いた薄膜トランジスタの低温領域における電気特性 |
| 松尾直人（兵庫県立大学大学院工学研究科） | DNAを使ったSi半導体MOSFET開発の為の予備検討 |
| 細井卓治（大阪大学大学院工学研究科） | イオン注入を利用した絶縁膜/ゲルマニウム界面特性改善に関する研究 |
| 山口弘修（株式会社中部シイアイシイ研究所） | 半導体容器洗浄における汚染評価 |
| 曽里裕（広島ネームプレート工業株式会社） | フォトエッチングによるステンレス板の微細加工 |
| 宮原裕二（（独）物質・材料研究機構生体材料センター） | 電気浸透流ポンプのセンサ基盤への一体化製造プロセスに関する研究 |
| 中上明光（（株）コベルコ科研エレクトロニクス事業部） | LEDチップの低電圧領域での異常個所の検出 |
| 青木隆朗（京都大学大学院理学研究科） | モノリシック光共振器の開発 |
| 出木秀典（広島国際学院大学） | Ge基板上への酸化膜形成と物性評価 |
| 中本英樹（（株）日立エンジニアリング・アンド・サービスコンピュータエンジニアリング部） | フローサイトメトリー法のための微細流路の設計 |
| 春木将司（広島大学大学院工学研究科） | 超臨界二酸化炭素を利用した次世代型超微細空間洗浄法の開発 |
