| 申請者 | 研究課題名 |
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| 爾見聡（エム・エフエスアイ（株）プロセス技術部部長） | 微細デバイスの静電気劣化を防止する洗浄〜乾燥プロセスの改良 |
| 佐道泰造（九州大学大学院システム情報科学研究院電子デバイス工学部門） | シリサイド半導体/Siのマイクロエピタキシーに関する研究 |
| 浦岡行治（奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科助教授） | 低温多結晶薄膜トランジスタの高性能化に向けたシリコン薄膜の研究 |
| 宮崎誠一（広島大学大学院先端物質科学研究科教授） | 量子ドット赤外高感度センサ・撮像素子の開発 |
| 向川政治（岩手大学工学部電気電子工学科） | パルス変調高周波プラズマを用いたハイブリッド低誘電率膜のプラズマ窒化と銅電極/層間絶縁膜界面制御 |
| 東賢一（積水化学工業?水無瀬研究所企画グループ副主任技術員） | 感光性薄膜材料のプラズマエッチング耐性評価 |
| 東賢一（積水化学工業?水無瀬研究所企画グループ副主任技術員） | 感光性薄膜材料のフォトリソ性評価 |
| 柏原伸紀（（株）アドテックプラズマテクノロジー） | プラズマCVDプロセスにおける簡易型微粒子モニタリング装置の開発およびその性能評価 |
| 山田憲嗣（広島工業大学工学部電子・光システム工学科講師） | 複眼光学系を用いた立体映像システム用光学素子の作製 |
| 李仁淑（大阪大学大学院工学研究科特任講師） | サブミクロンパターニングシリコン基板上でのナノデバイスの試み |
| 明連広昭（埼玉大学工学部電気電子システム工学科助教授） | Al超伝導トンネル接合素子を用いた高分解能フォトン検出器に関する研究 |
| 高村一夫（三井化学?触媒科学研究所固体触媒G主席研究員） | ポーラスLow-k材料用の洗浄装置および洗浄液の開発 |
| 三浦道子（広島大学大学院先端物質科学研究科教授） | LSIへの集積化に向けた超高速SiGeフォトディテクターの試作および評価 |
| 前田一彦（セントラル硝子(株)化成品事業企画室電子材料開発グループ） | 塗布型光導波路の光配線LSIへの応用 |
| 樋口克彦（広島大学大学院先端物質科学研究科） | 極小面積MOSFETにおける低周波ゆらぎ |
| 滝本嘉夫（次世代半導体材料技術研究組合研究員） | 積層絶縁膜構造における高精度容量測定法および、絶縁膜k値抽出法の開発 |
| 寺田健太郎（広島大学大学院理学研究科地球惑星システム学専攻助手） | 地球外サブミクロン粒子の軽元素同位体分析 |
| 嶋田哲也（エスペック（株）） | ドライプロセスによる微細構造体の洗浄 |
| 嶋田哲也（エスペック（株）） | 半導体ナノ配線構造の信頼性評価(仮題) |
| 森田瑞穂（大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻教授） | 金属−酸化物−半導体トンネリング構造の受光特性の研究 |
| 西林良樹（住友電工株式会社半導体技術研究所主席） | シングルダイヤモンドナノ突起作製に関する技術開発 |
| 新宮原正三（関西大学工学部機械工学科教授） | 自己組織化ナノホールへ埋め込み堆積したナノ物質二次元配列の断面構造評価と解析 |
| 久保征冶（MKイノベーション（株）） | ストップウォッチ用CMOSICの試作 |
| 伊藤厚雄（信越化学工業（株）主席技術員） | シリコンウェハの欠陥評価 |
| 永田隆一（アンカー・ビジネス・システムズ（株）代表取締役社長） | 高純度SiC粒子を使った、半導体シリコン基板の端面処理 |
| 堀中順一（京都大学工学研究科材料化学専攻滝川研究室助手） | シリコンウェハの超微細加工 |
| 堀切忠彦（（財）京都高度技術研究所京都ナノテククラスター本部） | シリコン熱酸化物作製について |
