| 申請者 | 研究課題名 |
|---|
| 碇敦（シルトロニック・ジャッパン（株）R&Dグループグループリーダ） | シリコン中微細欠陥を利用した、選択異方性エッチングによる超微細構造の形成 |
| 土屋敏章（島根大学総合理工学部教授） | 立体ナノSOIMOSデバイスの研究 |
| 向川政治（岩手大学工学部電気電子工学科） | パルス変調高周波プラズマを用いたハイブリッド低誘電率膜のプラズマ窒化と銅電極/層間絶縁膜界面制御 |
| 明連広昭（埼玉大学工学部電気電子システム工学科助教授） | Ａl超伝導トンネル接合素子を用いた高分解能フォトン検出器に関する研究 |
| 廣田俊明（タツモ(株)半導体装置部設計課） | ナノポーラス現像装置開発 |
| 樋口克彦（広島大学先端物質科学研究科助教授） | ナノサイズMOSFETにおける低周波ゆらぎ |
| 柏原伸紀（科学技術振興機構研究成果活用プラザ広島奥山アドテックプロジェクト） | 水素化アモルファスシリコン薄膜製造工程におけるサインカーブ形振幅変調高周波の使用によるダスト微粒子の抑制 |
| 柏原伸紀（科学技術振興機構研究成果活用プラザ広島奥山アドテックプロジェクト） | RIEプロセスにおけるサインカーブ形振幅変調高周波の使用による絶縁膜のダメージ低減 |
| 浦岡行治（奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科助教授） | 低温多結晶薄膜トランジスタの高性能化に向けたシリコン薄膜の研究 |
| 爾見聡（エム・エフエスアイ（株）プロセス技術部部長） | 微細デバイス特性に及ぼす洗浄〜乾燥プロセスにおける静電気の影響の調査と改善 |
| 児嶋充雅（日立化成工業（株）研究開発推進室半導体材料担当部長） | 65（nmノード対応ナノポーラス絶縁膜の物性評価 |
| 前田一彦（セントラル硝子（株）ファインケミカル事業企画室） | LSI用塗布型光導波路技術の研究 |
| 山田憲嗣（広島工業大学工学部講師） | 複眼光学系を用いた立体映像システムの開発 |
| 佐道泰造（九州大学大学院システム情報科学研究院電子デバイス工学部門） | シリサイド半導体/Siのマイクロエピタキシーに関する研究 |
| 三浦道子（広島大学大学院先端物質科学研究科教授） | LSIへの集積化に向けた超高速SiGeフォトディテクターの試作および評価 |
| 爾見聡（エム・エフエスアイ（株）プロセス技術部部長） | 微細デバイスの静電気劣化を防止する洗浄〜乾燥プロセスの改良 |
| 川上信之（(株）神戸製鋼所電子技術研究所） | 電子ビームリソグラフィによるダイヤモンド基板上へのサブミクロンパターン形成 |
| 西林良樹（住友電気工業（株）半導体研究所） | ダイヤモンドエミッタ用マスク作製技術の広島大学ｰ企業間共同研究への技術移転 |
| 佐道泰造（九州大学大学院システム情報科学研究院電子デバイス工学部門） | 露光マスク作成相談 |
| 野原陽（（株）テクノファイン） | アモルファスシリコンの成膜についての相談 |
| 野原陽（（株）テクノファイン） | LP-CVDでのポリシリコン膜について |
| 西橋勉（（株）アルバック半導体技術研究所） | Si半導体のイオン反射実験に関して |
| 田中勲（清水建設（株）技術研究所） | 半導体のケミカル汚染について |
| Hara Toru（太陽誘電） | 酸化物薄膜トランジスタの研究 |
