| 申請者 | 研究課題名 |
|---|
| 新沼仁（日本無機株式会社商品開発センター 主任技師） | クリーンルーム用有機ガス除去光触媒装置のナノデバイスを用いた実証研究 |
| 四戸敬昭（ワッカー・エヌエスシーイー（株） Ｒ＆Ｄグループ グループリーダ） | シリコン中微細欠陥を利用した、選択異方性エッチングによる超微細構造の形成 |
| 功刀義人（広島大学総合科学部） | 有機FET素子の開発 |
| 荻原光彦（（株）沖デジタルイメージング次世代ヘッド開発プロジェクト 部長） | ナノオーダー平坦表面ボンディング技術の研究 |
| 小方厚（広島大学院先端物質科学研究科 教授） | ナノロッドと電子ビームによる発光現象の研究 |
| 樋口克彦（広島大学先端物質科学研究科 助教授） | ナノサイズMOSFETにおける低周波雑音 |
| 檜山浩國（（株）荏原総合研究所物理研究室 室長） | 中世ビームエッチングによる低損傷微細加工技術の研究 |
| 大山幸次（大日商事（株)300mmΦ関連製品部門 マネージャー） | 超微細デバイス対応のクリーン化ユニットを付加したウェハボックスのMOSデバイスによる評価 |
| 田中武（広島工業大学工学部電子・光システム工学科 助教授） | プラズベースマイオン注入法を用いた微細加工表面のプラズマ減菌 |
| 藤ノ木朗（信越石英株式会社石英技術研究所応用研究室 室長） | ナノエッチャー用合成石英ガラス材料の評価 |
| 前田一彦（セントラル硝子株式会社ファインケミカル事業企画室） | LSI用塗布型光導波路技術の研究 |
| 西林良樹（住友電気工業（株)伊丹研究所） | 高輝度ダイヤモンドナノエミッタの開発 |
| 柏原伸紀（科学技術振興事業団研究成果活用プラザ広島奥山アドテックプロジェクト 研究員） | 水素化アモルファスシリコン薄膜製造工程におけるサインカーブ形振幅変調高周波の使用による微粒子の抑制 |
| 柏原伸紀（科学技術振興事業団研究成果活用プラザ広島奥山アドテックプロジェクト 研究員） | RIEプロセスにおけるサインカーブ形振幅変調高周波の使用による絶縁膜のダメージ低減 |
| 児嶋充雅（日立化成工業（株)研究開発推進室 半導体材料担当部長） | 65 nmノード対応ナノポーラス絶縁膜の物性評価 |
| 高橋主人（（株）日立ハイテクノロジーズ笠戸事業所 開発センター長） | シリコンナノデバイス作製のおけるエッチングナノストラクチャ損傷低減技術の開発 |
| 新沼仁（日本無機株式会社開発部 副部長） | HSG-Si形成による有機ガス除去用光触媒空気清浄装置の評価 |
| 田村一貴（東レ株式会社電子情報材料研究所 主任研究員） | 65 nmノード半導体製造プロセスに適用可能なレジストパターン形成技術の開発 |
| 川上信之（(株）神戸製鋼所電子技術研究所） | 電子ビームリソグラフィ技術による、ダイヤモンド基板上へのサブミクロンパターン形成 |
| 中井宏（石川島播磨重工業基板技術研究所応用理学研究部） | 電子ビーム描画を用いた超微細加工についての相談 |
| 前之園好爾（北九州工業高等専門学校機械工業科） | 機械工業の教育にナノテクを応用することについての相談 |
| 高橋正光（萬国製針） | 微細加工についての相談 |
| 久保敏（（有）FTCコーポレーション） | 成膜依頼についての相談 |