SOIウェハを用いて10nmの微細レジストラインパターンを描いた後、Siをエッチングして微細構造を形成し、その電気的特性を観測します。

文部科学省ナノテクノロジープラットフォームの事業として、無料および有料の電子ビームリソグラフィ実習の参加者を募集しています。関心をお持ちの方々の参加を歓迎致します。

パンフレットはこちら(pdf形式)


■参加費：3万円/人

■お申し込み先：Web: https://nanoworld.jp/npf/training/h26-1/ 応募締切6月5日（木）

■お問合せ：yokoyama-shin@hiroshima-u.ac.jp（横山 新）
　　　　　　　　広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
　　　　　　　　Web: http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/ （研究所）